因为用POCL3进行扩散时,POCL3会在高温（＞600℃）下分解成为P2O5和PCL5.而PCL5是不易分解的,而且会腐蚀硅片.所以我们通一定量的氧气,使PCL5和氧气反应生成P2O5和氯气.而扩散的反应主要就是沉积在硅片表面的P2O5与硅片反应生成SIO2和P原子,然后P原子在硅片中进行扩散.